一、UV固化原理、UV灯及相关技术参数：
1、UV固化原理：在特殊配方的树脂中加入光引发剂（或光敏剂），经过吸收紫外线（UV）光固化设备中的高强度紫外光后，产生活性自由基，从而引发聚合、交联和接枝反应，使树脂在数秒内由液态转化为固态。
2、UV固化灯：目前工业上使用的UV设备光源，主要是气体放电灯（汞灯）。根据灯内腔气体的压强大小分为低压、中压、高压、超高压几种，工业上的生产固化通常使用高压汞灯。高压汞灯可以产生辐射强烈的310nm、365nm、410nm等波长的特征紫外光（UV）、可见光及红外光（IR），其中365nm为主峰的波长是世界各国常用的用于固化干燥的波段（以下称谓的UV灯即指365nm的高压汞灯）。
二、相关参数对固化质量的影响
1、UV灯波长：365nm波段的光谱适合于一般的光固化油墨（不适用于冰花、起皱等特殊光谱要求的油墨）。UV灯管的杂光过多，会影响光固效果，建议客户在选用UV光固设备时先进行光固试验，以检验UV机的波长是否符合光固要求。
2、UV灯的功率：一般UV光固油墨要求的功率为80-120w/cm，光固能量过高会造成油墨的脆化，光固能量过低达不到光固效果。
3、吸风装置：UV灯在散发紫外线的同时，也会产生大量的热量，使机体内的温度不断升高，光固机在UV灯管上方装有抽风装置，并通过抽风管道将固化过程中产生的臭氧排出室外，从而达到降温的目的。当承印物太薄或耐温要求很低时，需经光固试验确定是否能满足要求。对温度要求较高的承印物，我们可承接特殊加工，在灯管的下方装置石英玻璃板，以达到降温和进一步过滤杂光的作用。
三、UV灯光清洗的工作原理：
UV灯光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到”原子清洁度”。更详尽的讲：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量，当这些光子作用到被清洗物体表面时，由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力，并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子，这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用，臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下，物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，从而彻底清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。
清洗时，使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多，其表面水接触愈小，成反比关系。
一般STN-LCD制作过程中，需求的玻璃基板累积紫外线能量为300mj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色滤光片制作过程中，要求的玻璃基板累积紫外线能量为600mj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD制作过程中，除了低压水银灯产生臭氧清洗玻璃外，目前制程的主流是，使用Excimer Lamp，其172nm波长紫外线的高反应性质对玻璃的清洗效率更好。
四、紫外光清洗的特点：
1、是一种无接触方式，可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。
2、可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。
3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。
4、保证产品的高可靠性和高成品率。
5、产品表面清洗处理的均匀度一致。
6、由于光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法，只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多，无机类污垢清洗。
五、紫外光清洗的技术应用范围：
主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法最为合适。
主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。
可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。
此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点，目前在液晶显示器STN的生产过程中，主要是用在膜处理技术上，对于改善膜与膜之间的密接是非常有效的，如ITO膜与感光胶膜层，TOP涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品，用于纳米技术研究，产品经此UV光照射发生化学反应，使产品表面性质改变。STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中，有些制程设备相当雷同，差别在于制造工艺要求的不同。随着线路的精细化及产品的彩色比，LCD产业对制造工艺的要求也不断地提升，而有”工欲善其事，必先利其器”之需求，因此只有设备能力不断地精进，才能提高生产的质量与效率。
